Vanne dosée avec contrôle moyen pour équipement de projection plasma avec résistance haute température

Conçue sur mesure pour les équipements de projection plasma dans les applications de revêtement métallique et céramique, notre vanne dosée contrôle avec précision le débit du milieu de projection pour garantir une qualité de revêtement uniforme. Conçue pour résister à des températures extrêmes allant jusqu'à 300℃, la vanne est dotée d'un noyau en céramique de zircone et d'un boîtier en céramique d'alumine qui résiste à la dégradation due aux arcs plasma dépassant 10 000℃.

La vanne offre une précision de débit exceptionnelle de ±0,5 % pour une épaisseur de revêtement constante allant de 50 à 500μm. Sa conception anti-sédimentation innovante avec micro-agitation intégrée empêche la sédimentation des poudres à haute densité, tandis que la compatibilité avec les pistolets de projection plasma standard (courant de 100 à 400 A) et la liaison de pression de gaz (argon, hydrogène) optimisent l'efficacité de la pulvérisation pour les fabricants d'équipements de projection thermique.

• Contrôle du micro-débit (0,1-2 ml/min) correspondant à un débit de brouillard de 100-500 ml/h
• Structure à double joint (silicone + EPDM) assurant une performance étanche de 0,3 MPa
• Plastique ABS de qualité alimentaire empêchant la croissance bactérienne dans les canaux d'eau
• Conception à faible consommation d'énergie (1,5 W) compatible avec les alimentations d'humidificateurs domestiques de 5 V
• Prend en charge la liaison du capteur d'humidité pour le réglage automatique du débit

Idéal pour un usage domestique, offrant un contrôle précis et une installation facile pour des environnements aromatiques personnalisés.